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专利
专利名称:
一种换位机构
专利号:
201220652820.5
专利权人:中国科学院光电研究院
时间:2012-11-30
专利名称:
一种V形块位置转换机构
专利号:
201210505997.7
专利权人:中国科学院光电研究院
时间:2012-11-30
专利名称:
采用颜色编码提高正交复合光栅位相测量轮廓术的动态特性
专利号:
CN200910059846
专利权人:四川大学
时间:2009-07-01
专利名称:
一种可绝对位相展开的十六步双频光栅相移轮廓术
专利号:
CN200910059848
专利权人:四川大学
时间:2009-07-01
专利名称:
用非等步相移正交光栅实现实时三维面形测量的方法
专利号:
CN200910059847
专利权人:四川大学
时间:2009-07-01
专利名称:
一种基于四向虚光栅的二维干涉图相位提取方法
专利号:
201410642147.0
专利权人:北京理工大学
时间:2014-11-11
专利名称:
双吸收层交替相移掩模衍射场的计算方法
专利号:
201210046169.1
专利权人:北京理工大学
时间:2012-02-28
专利名称:
光刻物镜非球面位置选择方法
专利号:
201210099577.3
专利权人:北京理工大学
时间:2012-04-06
专利名称:
高分辨率福布斯光刻物镜
专利号:
201110352225.X
专利权人:北京理工大学
时间:2011-11-09
专利名称:
高分辨率非球面光刻物镜
专利号:
201010279318.X
专利权人:北京理工大学
时间:2010-09-13
专利名称:
深紫外全球面光刻物镜
专利号:
201010278088.5
专利权人:北京理工大学
时间:2010-09-10
专利名称:
带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法
专利号:
201210099540.0
专利权人:北京理工大学
时间:2012-04-06
专利名称:
一种基于模式搜索法光刻配置参数的优化方法
专利号:
201110353960.2
专利权人:北京理工大学
时间:2011-11-09
专利名称:
获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法
专利号:
201110117127.8
专利权人:北京理工大学
时间:2011-05-06
专利名称:
一种精密磁阻作动器电磁力建模及运动控制方法
专利号:
专利权人:华中科技大学
时间:2017-04-21
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