尹志尧
2017-08-25
1984年参加Intel中心技术开发部，任工艺工程师。1986年加盟LamResearch，任研发部资深工程师，资深经理等职，1991年被应用材料公司特别聘用，先后担任等离子体刻蚀设备产品总部首席技术官、总公司副总裁及等离子刻蚀事业群总经理。由于他和同事的努力，等离子体制刻蚀设备产值达到16亿美元年产值，占应用材料公司设备产品年产值的20%，国际等离子体刻蚀市场40%以上。在90年代末再次取得世界市场的领先地位。2004年8月带领团队回国创建了中微半导体设备公司（AMEC），并担任董事长和首席执行官。经过十多年的努力，中微三代的介质刻蚀设备，硅通孔和MEMS刻蚀设备和MOCVD设备已进入国际三强地位，有500多个反应台进入国内外36家先进的芯片生产线，生产了3600多万片合格的晶圆，并已参与了10纳米器件的研发。中微在过去的五年保持了平均年销售增长35%以上。