胡正明
2017-08-25
胡正明（Chenming Hu），微电子学家。美国国籍。祖籍江苏省金坛市城西马干村。1947年7月出生于中国北京。1968年台湾大学电机系毕业，获学士学位。1969年赴美国加州大学伯克利分校留学，1970年获硕士学位。1973年获美国加州大学伯克利分校博士学位。美国加州大学伯克利分校杰出讲座教授、北京大学计算机科学技术系兼职教授、中国科学院微电子所荣誉教授、台湾交通大学（新竹）微电子器件荣誉教授、1991-1994年任清华大学（北京）微电子学研究所荣誉教授。1997年当选为美国工程科学院院士。2007年当选中国科学院外籍院士。2015年12月获得美国国家技术和创新奖。当地时间2016年5月19日，美国总统奥巴马在白宫为胡正明颁发美国国家科学奖章。胡正明教授是微电子微型化物理及可靠性物理研究的一位重要开拓者，对半导体器件的开发及未来的微型化做出了重大贡献。主要发明技术有：基于立体型结构的FinFET晶体管技术（鳍式场效应晶体管）和基于SOI的超薄绝缘层上硅体技术的UTB-SOI技术（FDSOI晶体管技术）等。