专利
专利名称：一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统
专利号：ZL201210576850.7
专利名称：带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统
专利号：ZL201210576830.X
专利名称：一种双台交换激光尺测量信号切换装置及方法
专利号：ZL201210170181.3
专利名称：一种双工件台位置交换过程中驱动器切换装置
专利号：ZL201210170547.7
专利名称：一种大行程运动台位移测量方法
专利号：ZL201210121975.0
专利名称：一种光刻机掩模台横梁
专利号：ZL201220059069.8
专利名称：光刻设备
专利号：201410604047.9
专利名称：套刻误差测量装置及方法1
专利号：201410412523.7
专利名称：套刻误差测量装置及方法2
专利号：201410331266.4
专利名称：光刻曝光装置
专利号：201410225848.4
专利名称：双自由度主动减振装置及控制方法
专利号：201410171062.9
专利名称：曝光装置与曝光方法
专利号：201410114813.3
专利名称：一种浸没式曝光设备
专利号：201310636170.4
专利名称：浸没头、浸没流场初始化和维持方法及光刻设备
专利号：201310513624.9
专利名称：双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法
专利号：201210138025.9
