专利
专利名称：多吸收层一维光掩模近场分布的计算方法
专利号：ZL201210166477.8
专利名称：多吸收层二维光掩模近场分布的计算方法
专利号：ZL201210166471.0
专利名称：双吸收层交替相移接触孔掩模衍射场的计算方法
专利号：ZL201210148199.3
专利名称：带辅助线条的双层衰减相移接触孔掩模衍射场的计算方法
专利号：ZL201210099581.X
专利名称：双吸收层交替相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法
专利号：ZL201210099559.5
专利名称：一种分析高数值孔径成像系统空间像的方法
专利号：ZL201210148174.3
专利名称：一种光刻掩模优化设计方法
专利号：201310432991.6
专利名称：一种光刻机投影物镜波像差的测量方法
专利号：ZL201310597584.0
专利名称：Photoelectric autocollimation method and apparatus based on beam drift dompensation
专利号：13/701,487
专利名称：基于气磁零位基准和激光自准直测量的空气弹簧隔振平台
专利号：ZL201210571736.5
专利名称：基于气浮零位基准和激光自准直测量的磁浮隔振平台
专利号：ZL201210571982.0
专利名称：一种配装波纹管垂向解耦重力补偿器的微动台
专利号：ZL201210385289.4
专利名称：一种六自由度磁浮微动台
专利号：ZL201210574185.8
专利名称：一种直线电机单自由度隔振装置及其运动控制方法
专利号：PCT/CN2013/074194
专利名称：METHORD FOR MEASURING DISPLACEMENT OF LARGE RANGE MOVING PLATFORM
专利号：US9182217B2
