专利
专利名称：一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
专利号：CN201611231352.3
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
专利号：CN201611231383.9
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：一种化学机械抛光液及其应用
专利号：CN201611231317.1
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：一种化学机械抛光方法
专利号：CN201611231249.9
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：一种氮化硅化学机械抛光液
专利号：CN201611070459.4
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-11-29
专利名称：一种具有高氮化硅选择性的化学机械抛光液
专利号：CN201611070473.4
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-11-29
专利名称：一种化学机械抛光液
专利号：CN201610633767.7
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-08-04
专利名称：一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
专利号：CN201610633749.9
专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
时间：2016-08-04
专利名称：一种化学机械抛光液
专利号：201611231353.8
专利权人：安集微电子（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：一种化学机械抛光液
专利号：201611231361.2
专利权人：安集微电子（上海）有限公司
时间：2016-12-28
专利名称：带有载流子俘获中心的衬底的制备方法
专利号：2016112259961.0
专利权人：上海新傲科技股份有限公司
时间：2016-12-27
专利名称：提高键合强度的退火方法
专利号：2016112277601.0
专利权人：上海新傲科技股份有限公司
时间：2016-12-27
专利名称：带有绝缘埋层的衬底的制备方法
专利号：2016112259942.0
专利权人：上海新傲科技股份有限公司
时间：2016-12-27
专利名称：带有载流子俘获中心的衬底的制备方法
专利号：2016112277673.0
专利权人：上海新傲科技股份有限公司
时间：2016-12-27
专利名称：在键合前清洗键合表面的方法
专利号：2016112268867.0
专利权人：上海新傲科技股份有限公司
时间：2016-12-27