专利
专利名称：圆筒形掩模板的涂布装置和涂布方法
专利号：201310222164.4
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-06-05
专利名称：PHOTORESIST COATING APPARATUS AND METHODS
专利号：14/287,716
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-05-27
专利名称：晶体管及其形成方法
专利号：201310425291.4
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-09-17
专利名称：晶体管及其形成方法
专利号：201310157798.6
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-04-28
专利名称：TRANSISTORS AND FABRICATION METHOD THEREOF
专利号：14/022,500
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-09-10
专利名称：半导体结构及其形成方法
专利号：201310157828.3
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-04-28
专利名称：隧穿场效应晶体管及其形成方法
专利号：201310669773.4
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-12-10
专利名称：半导体结构的形成方法
专利号：201310156943.9
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-04-28
专利名称：一种制作半导体器件的方法
专利号：201410045964.8
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-02-08
专利名称：一种半导体器件的制作方法
专利号：201410073314.4
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-02-28
专利名称：一种半导体器件及其制作方法
专利号：201410051810.X
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-02-14
专利名称：MOS晶体管及其制作方法
专利号：201510056720.4
专利权人：SMIC(SH)
时间：2015-02-03
专利名称：垂直纳米线MOS晶体管及其形成方法
专利号：201410076899.5
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-03-04
专利名称：极紫外光刻机光源系统及极紫外曝光方法
专利号：201310315161.5
专利权人：SMIC(SH)
时间：2013-07-24
专利名称：SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING CONTAMINATION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY LIGHT SOURCE
专利号：14/267,193
专利权人：SMIC(SH)
时间：2014-05-01
