关于召开首届国际先进光刻技术研讨会的通知
2017-09-11
由集成电路产业技术创新战略联盟主办，中国科学院微电子研究所承办的首届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）将于2017年10月12日至13日在北京国际会议中心举办。作为在中国大陆举办的首个此类研讨会，和其它国际光刻会议有所不同，会议以当前业界最先进的主流技术为主，其目的是研讨未来五年光刻技术所面临的问题，归纳、总结出业界可行的技术方案。本次研讨会为来自国内外不同学科的优秀研究人员和工程师搭建了一个技术交流平台，参会者能够就设计规则、掩模、光刻技术方案、计算光刻等分享各自的研究成果。作为国内首个高端光刻技术研讨会，其发言者均为来自光刻及其相关领域的国内、外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。该研讨会旨在提供与会者一个深入讨论的互动平台。也为想要了解更多中国半导体业态的国外研究者和工程师提供了一次机会。
详细情况和报名方式请关注以下网址：http://www.iwaps.org/cn/