10月26日，第七届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在浙江丽水胜利闭幕。会议由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、丽水经济技术开发区管理委员会（浙江丽水特色半导体“万亩千亿”新产业平台）承办，浙江富浙资本管理有限公司、广东省大湾区集成电路与系统应用研究院、南京诚芯集成电路技术研究院协办。本次会议由SIEMENS、EDWARDS、JSR、徐州博康、全芯智造、沈阳芯源、SMEE、厦门恒坤、KEMPUR、东方晶源、ZEISS、Cymer、PIBOND、Fujifilm、3M等国内外企业提供赞助。来自中国、美国、德国、日本、瑞士等世界各地众多企业、科研机构、高校的数百余名技术专家和学者参加了本届大会。

　　     大会由组委会秘书长，SPIE会士，中国科学院微电子研究所研究员，中国科学院大学教授韦亚一研究员主持。大会主席，中国集成电路创新联盟理事长曹健林研究员；大会主席，中国科学院微电子研究所研究员，中国集成电路创新联盟副理事长兼秘书长叶甜春研究员；中国光学学会秘书长，COS & OSA & SPIE会士，浙江大学教授，现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭教授；中共丽水市委常委，常务副市长楼志坚先生；丽水市人民政府党组成员，丽水经济技术开发区党工委书记，管委会主席刘志伟先生；程序委员会主席，顾问李序武先生分别致辞。浙江省国有资本运营有限公司党委副书记、总经理王恭裕先生出席。按照大会安排，在这两天的时间里，来自PSI、AMEC、东方晶源、华力、SIEMENS、复旦大学、浙江大学、Cymer、Fujifilm、JSR、HIT、KingSemi、全芯智造、HFC等数十家机构的嘉宾分别就拟定的主题做技术报告，深入分析光刻领域最新的技术进展和解决方案，内容丰富。演讲主题包含计算光刻、DTCO、EUV、工艺、量测、Deep Learning、设备、材料、新型光刻技术等。

　　大会主席，中国集成电路创新联盟理事长曹健林致辞

　　大会主席，中国科学院微电子研究所研究员，

　　中国集成电路创新联盟副理事长兼秘书长叶甜春致辞

　　中国光学学会秘书长，COS & OSA & SPIE会士，浙江大学教授，

　　现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭致辞

　　中共丽水市委常委，常务副市长楼志坚致辞

　　丽水市人民政府党组成员，

丽水经济技术开发区党工委书记，管委会主席刘志伟致辞

　　组委会秘书长，SPIE会士，中国科学院微电子研究所研究员，

　　中国科学院大学教授韦亚一主持开幕式

　　近年来，中国集成电路蓬勃发展，基于这样的形式，国际先进光刻技术研讨会应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。作为国际高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。