专利
专利名称：均热板及应用该均热板的基片处理设备
专利号：201010585727.2
专利名称：静电卡盘和具有它的等离子体装置
专利号：201010577917.X
专利名称：下电极装置及半导体设备
专利号：201010569759.3
专利名称：腔室组件及应用该腔室组件的半导体处理设备
专利号：201010549068.7
专利名称：磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法
专利号：201010538417.5
专利名称：功率匹配装置和半导体设备
专利号：201010537743.4
专利名称：权限管理方法和装置、权限控制方法和装置
专利号：201010536592.0
专利名称：设备控制过程中的日志记录方法、装置及系统
专利号：201010536593.5
专利名称：设备控制软件的帮助系统及其实现方法
专利号：201010534560.7
专利名称：一种直线驱动装置及应用该装置的半导体处理设备
专利号：201010532049.3
专利名称：物理气相沉积设备及磁控溅射方法
专利号：201010528478.3
专利名称：磁铁及其加工方法和磁控溅射源
专利号：201010523028.5
专利名称：等离子体加工设备
专利号：201010294210.8
专利名称：一种靶材功率加载方法、靶材电源及半导体处理设备
专利号：201010291502.6
专利名称：大气传输单元及具有该大气传输单元的晶片传输系统
专利号：201020538674.4
