专利
专利名称：磁控溅射源及磁控溅射设备
专利号：201010281329.1
专利名称：磁控源和磁控溅射设备、以及磁控溅射方法
专利号：201010277532.1
专利名称：一种均光板及应用该均光板的基片加工设备
专利号：201010248253.2
专利名称：一种磁控管及应用该磁控管的薄膜沉积处理设备
专利号：201010224956.1
专利名称：一种靶材及应用该靶材的半导体器件加工设备
专利号：201010177298.5
专利名称：一种磁控溅射源及等离子体处理设备
专利号：201010121301.1
专利名称：磁控溅射源、磁控溅射装置及其方法
专利号：200910243043.1
专利名称：磁控管装置
专利号：200910091688.8
专利名称：用于处理任意宽度数据
的算术逻辑单元及其处
理方法
专利号：200910163703.5
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-30
专利名称：一种跳格式探针卡制作
方法
专利号：201210529885.5
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-29
专利名称：一种半导体直流参数测
量模块组快速校准装置
专利号：201210529785.2
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-28
专利名称：一种用于不同型号探针
台的 Map 图转换方法
专利号：201110119302.7
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-27
专利名称：一种用于多 site 并行测
试的 site 良率统计方法
专利号：201110119305.0
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-26
专利名称：一种在集成电路晶圆测
试过程中实现多维变量
密码并行写入的方法
专利号：201110029200.6
专利权人：北京确安科技股份有限公司
时间：2011-06-25
专利名称：一种基于金属Co的抛光工艺的抛光液及其应用
专利号：PCT/CN 2011/002027
