专利
专利名称:四叔丁氧基锆的合成方法
专利号:201110254699.8
专利名称:四叔丁氧基铪的合成方法
专利号:201110254613.4
专利名称:四(二甲胺基)铪的合成方法
专利号:201110254600.7
专利名称:四苄基类铪及其合成方法和应用
专利号:201010598838.7
专利名称:四乙氧基铪的合成方法
专利号:201010598892.1
专利名称:四(邻烷氧基苯氧基)铪及其合成方法和应用
专利号:201010598837.2
专利名称:一种测定高纯金属有机锆中痕量金属离子的方法
专利号:200910263103.6
专利名称:二氯二茂类锆的合成方法
专利号:200910263105.5
专利名称:二氯二茂类铪的合成方法
专利号:200910263104.0
专利名称:一种制作栅结构的方法
专利号:201210353180.2
专利权人:上海集成电路研发中心有限公司
时间:2012-09-20
专利名称:一种应变硅浅沟槽隔离结构的形成方法
专利号:201210342100.3
专利权人:上海集成电路研发中心有限公司
时间:2012-09-14
专利名称:半导体硅片的清洗装置及其清洗方法
专利号:201110458408.X
专利权人:上海集成电路研发中心有限公司
时间:2011-12-30
专利名称:双重曝光方法
专利号:201010619489.2
专利权人:上海集成电路研发中心有限公司
时间:2010-12-31
专利名称:双重图形化方法
专利号:201010619444.5
专利权人:上海集成电路研发中心有限公司
时间:2010-12-31
专利名称:压电陶瓷驱动器的高速纳米精度运动控制方法及系统
专利号:201410354111.2
专利权人:上海交通大学
时间:2014-07-24