专利
专利名称：一种气液两相雾化清洗装置及清洗方法
专利号：PCT/CN2013/073574
专利名称：化学液混合装置及方法
专利号：TW102103613
专利名称：晶片背面清洗装置
专利号：TW102103612
专利名称：一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置及方法(device for holding disk-shaped articels and methed thereof)
专利号：TW101144923
专利名称：一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置及方法(device for holding disk-shaped articels and methed thereof)
专利号：E12/00782018
专利名称：一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置及方法(device for holding disk-shaped articels and methed thereof)
专利号：US13701939
专利名称：一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置及方法
专利号：PCT/CN2012/076831
专利名称：一种蚀刻剂及其制备和应用
专利号：PCT/CN2013/073276
专利名称：清洗机摆动喷淋装置及方法
专利号：PCT/CN2013/073580
专利名称：防止液体飞溅的清洗装置和具有该装置的清洗系统
专利号：PCT/CN2013/073572
专利名称：补液装置
专利号：PCT/CN2013/073236
专利名称：具有监测半导体晶片状态功能的夹持装置
专利号：TW102103619
专利名称：一种清洗雾化喷射装置
专利号：TW102103617
专利名称：夹持平面盘状物的装置
专利号：TW102103615
专利名称：半导体晶圆制造装置(apparatus for manufacturing semiconductor wafer)
专利号：TW101144924
