专利
专利名称：曝光装置
专利号：201310029962.5
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2013-01-25
专利名称：一种工件高度测量装置及校正方法
专利号：201210328886.3
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-09-07
专利名称：用于扫描光刻机的逐场调焦调平方法
专利号：201210358264.5
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-09-25
专利名称：用于光刻装置的散射测量调焦设备及方法
专利号：201210181487.9
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-06-05
专利名称：双工件台测量初始化系统
专利号：201220459452.2
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-09-10
专利名称：用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法
专利号：201210181489.8
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-06-05
专利名称：一种背面对准装置及背面对准基底贴片方法
专利号：201210195584.3
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-06-14
专利名称：用于光刻设备的自参考干涉对准系统
专利号：201210091145.8
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-03-31
专利名称：掩模对准装置及使用该装置的光刻设备
专利号：201210131099.x
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-05-02
专利名称：一种电机冷却控制系统及控制方法
专利号：201310103200.5
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2013-03-27
专利名称：过滤器装置
专利号：201210137983.4
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-05-04
专利名称：一种对准装置及对准方法
专利号：201210285505.8
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-08-10
专利名称：一种调焦调平光斑位置校准方法
专利号：201210240355.9
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-07-12
专利名称：光刻机及应用于光刻机中的工件台系统
专利号：201210189355.0
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-06-08
专利名称：偏振照明装置及偏振照明方法
专利号：201210525295.5
专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
时间：2012-12-07