专利
专利名称：延长光刻胶有效使用寿命的方法
专利号：201010229380.8
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-07-16
专利名称：半导体清洗装置和清洗半导体器件的方法
专利号：201010229366.8
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-07-16
专利名称：低功耗锁相环电路
专利号：201010229353.0
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-07-16
专利名称：用于集成电路硅片的电镀设备的清洗槽
专利号：ZL201020249231.3
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-07-02
专利名称：一种用于测量套准精度的测量结构
专利号：ZL201020246561.7
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-06-30
专利名称：半导体悬臂结构的制造方法
专利号：201010216535.4
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-06-30
专利名称：干法刻蚀TaN电极的方法
专利号：201010187540.7
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-05-28
专利名称：一种D型触发器单元以及具有D型触发器单元的分频器
专利号：201010187388.2
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-05-28
专利名称：半导体器件清洗装置及清洗方法
专利号：201010187362.8
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-05-28
专利名称：一种等离子体设备
专利号：ZL201020209460.2
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-05-28
专利名称：半导体器件清洗装置
专利号：ZL201020209458.5
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-05-28
专利名称：一种硅片的湿法处理方法
专利号：201010137186.7
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-03-31
专利名称：高效率的硅片清洗水槽和清洗方法
专利号：201010128853.5
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-03-19
专利名称：硅片清洗装置及方法
专利号：201010118770.8
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2010-03-05
专利名称：移相掩膜板的制造方法及其结构
专利号：200910247877.X
专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
时间：2009-12-31