专利

专利名称：一种三平面绝对测量的检测装置及方法
专利号：CN201210087949.0
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2012-03-30
专利名称：一种投影光学系统
专利号：CN201210027757.0
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2012-02-08
专利名称：一种反射型投影光学系统
专利号：CN201210025962.3
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2012-02-07
专利名称：一种用于小孔标定的检测装置和方法
专利号：CN201110316482.8
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2011-10-18
专利名称：光学面形的检测装置及光学面形的检测方法
专利号：13/214645
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2011-08-22
专利名称：一种全球面投影物镜
专利号：CN201110187035.7
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2011-07-06
专利名称：一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统
专利号：CN201110082634.2
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2011-04-02
专利名称：一种用于投影光刻中球面或曲面的偏心及焦面位置的检测装置
专利号：CN201010623893.7
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2010-12-31
专利名称：检测光学面形的装置及光学面形的检测方法
专利号：CN201010266732.7
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2010-08-24
专利名称：一种确定光刻机最佳焦面位置的装置及方法
专利号：CN201010121649.0
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2010-03-01
专利名称：一种投影光刻物镜中的镜片偏心微调机构
专利号：CN200910237660.0
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2009-11-13
专利名称：一种投影光刻物镜中的镜片倾斜微调机构
专利号：CN200910237659.8
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2009-11-13
专利名称：一种自成像双面套刻对准方法
专利号：CN200910082586.X
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2009-04-24
专利名称：一种紫外级熔石英材料内羟基含量测量装置和方法
专利号：CN201611206859.3
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2016-12-23
专利名称：一种光刻照明系统中的相干因子调整装置
专利号：CN201510393722.2
专利权人：中国科学院光电技术研究所
时间：2015-07-07
上一页