专利

专利名称:宽带低功耗对称折叠MOS管共源共栅放大器
专利号:201110061216.5
专利权人:清华大学
时间:2011-03-15
专利名称:基于应变硅技术的P沟VDMOS器件
专利号:201010116769.1
专利权人:清华大学
时间:2010-03-02
专利名称:一种硅衬底上制作化合物半导体MMIC芯片的方法
专利号:201010191071.6
专利权人:清华大学
时间:2010-06-03
专利名称:一种高速半导体器件结构及其形成方法
专利号:201010520406.4
专利权人:清华大学
时间:2010-10-27
专利名称:高性能CMOS器件
专利号:201010273834.1
专利权人:清华大学
时间:2010-09-06
专利名称:一种高性能CMOS器件
专利号:201010273831.8
专利权人:清华大学
时间:2010-09-06
专利名称:一种高性能场效应晶体管及其形成方法
专利号:201010268624.3
专利权人:清华大学
时间:2010-08-31
专利名称:高性能场效应晶体管及其形成方法
专利号:201010268632.8
专利权人:清华大学
时间:2010-08-31
专利名称:通过低温实现选择性生长含Ge材料层的方法
专利号:201010212081.3
专利权人:清华大学
时间:2010-06-29
专利名称:低肖特基势垒半导体结构及其形成方法
专利号:201010183119.9
专利权人:清华大学
时间:2010-05-26
专利名称:一种具有应变沟道的CMOS器件结构及其形成方法
专利号:201010171859.0
专利权人:清华大学
时间:2010-05-07
专利名称:具有原位掺杂源漏的MOS结构及其形成方法
专利号:201010177623.8
专利权人:清华大学
时间:2010-05-20
专利名称:载流子迁移率的提取方法
专利号:201010177642.0
专利权人:清华大学
时间:2010-05-20
专利名称:半导体结构的形成方法
专利号:201010151185.8
专利权人:清华大学
时间:2010-09-29
专利名称:硅片上外延化合物半导体材料的过渡层单晶制备方法
专利号:200910238450.3
专利权人:清华大学
时间:2009-11-20
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