专利

专利名称：用于等离子体处理反应腔的射频屏蔽装置
专利号：201110084569.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-04-06
专利名称：一种反应腔漏气检测方法及真空反应器控制方法
专利号：201010280151.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-09-14
专利名称：一种用于处理SOI结构的真空处理系统
专利号：201020184060.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-04-29
专利名称：一种用于真空处理系统的流体传输装置
专利号：201010166384.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-04-29
专利名称：一种探测晶片偏移位置的方法
专利号：201010163830.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-04-29
专利名称：一种设有埋入射频电极的静电吸盘
专利号：201210022296.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-02-01
专利名称：一种用于等离子体处理装置的气体喷淋头
专利号：201210005091.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-09
专利名称：一种有机物层刻蚀方法
专利号：201210022072.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：一种有机物层刻蚀方法
专利号：201210022073.1
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：一种用于等离子体处理装置的载片盘
专利号：201210022071.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：一种用于等离子体处理装置的载片盘
专利号：201210021954.1
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：一种用于等离子体处理装置的载片盘
专利号：201210021956.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：一种用于等离子体处理装置的载片盘
专利号：201210021957.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-01-31
专利名称：具备可切换偏置频率的等离子体处理腔及可切换匹配网络
专利号：2010-174470
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-08-03
专利名称：一种适用于匹配多频率的单一匹配网络、其构建方法以及使用该匹配网络的射频功率源系统
专利号：2011-178331
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-08-17
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