专利
专利名称：改进等离子均匀性和效率的电感耦合等离子装置
专利号：201110319250.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-10-19
专利名称：电感耦合型等离子体处理装置
专利号：201010561086.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-11-26
专利名称：电感耦合型等离子体处理装置
专利号：201020627188.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-11-26
专利名称：一种用于等离子体发生器中的射频天线
专利号：201020624700.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-11-25
专利名称：带扩散解离区域的等离子体处理装置
专利号：201010110260.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-02-11
专利名称：一种深硅通孔刻蚀方法
专利号：200910196781.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-09-26
专利名称：一种深孔硅刻蚀方法
专利号：201010280087.4
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-09-14
专利名称：一种等离子反应室
专利号：201210093485.4
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-31
专利名称：一种具有双外壳的等离子体处理装置
专利号：201210091577.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-30
专利名称：一种电容耦合型等离子反应器及控制方法
专利号：201210081236.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-23
专利名称：光刻胶的去除方法
专利号：201210077046.4
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-21
专利名称：一种调节等离子体处理腔电场分布的供电系统
专利号：201210065396.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-13
专利名称：一种射频匹配网络及其所应用的等离子体处理腔
专利号：201210065406.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-03-13
专利名称：一种等离子体处理装置
专利号：201120510369.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-12-08
专利名称：一种边缘设有直流电极的静电吸盘
专利号：201120544025.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-12-23