专利
专利名称：一种工艺件的去夹持装置和方法
专利号：99104616
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-02-12
专利名称：一种等离子体处理装置及其处理方法
专利号：99104621
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-02-12
专利名称：一种可减少晶片背面聚合物的结构
专利号：98131657
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-09-18
专利名称：一种用于减少基片背面聚合物的装置
专利号：98131659
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-09-18
专利名称：等离子体处理装置
专利号：98212137
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-07-03
专利名称：用于等离子体处理室的内部组件及气体喷头组件
专利号：98212134
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-06-26
专利名称：等離子體約束裝置及利用該等離子體約束裝置的等離子體處理裝置
专利号：98208503
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-05-15
专利名称：感測和移除被加工半導體工藝件的殘餘電荷的系統和方法
专利号：98116222
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-05-15
专利名称：靜電夾盤裝置、等離子處理裝置和製造靜電夾盤裝置的方法
专利号：98116218
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-05-15
专利名称：抗電漿腐蝕之反應室部件、其製造方法以及包含該部件之電漿反應室
专利号：98110172
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-03-27
专利名称：一種刻蝕過程中防止/減少基片背面聚合物沉積的方法及實施該方法的裝置
专利号：98104264
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-02-11
专利名称：PLASMA PROCESSING APPARATUS
专利号：13/082340
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-04-07
专利名称：Electrostatic chuck and base for plasma reactor having improved wafer etch rate
专利号：12/502988
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-07-14
专利名称：System and method of sensing and removing residual charge from a processed wafer
专利号：12/505381
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2009-07-17
专利名称：一种用于静电吸盘边缘保护的保护装置
专利号：201020636357.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2010-12-01
