专利

专利名称：一种降低射频耦合等离子体装置的载置台及等离子体装置
专利号：201110419447.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-12-15
专利名称：一种降低射频耦合的等离子体处理装置及载置台
专利号：201110420481.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-12-15
专利名称：等离子体刻蚀工艺的终点监控方法
专利号：201110287515.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-09-23
专利名称：刻蚀终点动态检测方法
专利号：201110339025.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-10-31
专利名称：等离子体处理装置
专利号：201110240360.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-08-19
专利名称：等离子体刻蚀方法
专利号：201110141821.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-27
专利名称：等离子体刻蚀腔体内刻蚀气体调节方法
专利号：201110141770.4
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-27
专利名称：可调节等离子体浓度分布的等离子处理装置及其处理方法
专利号：201110259602.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-09-05
专利名称：一种聚焦环
专利号：201120425851.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-11-01
专利名称：一种可调制的聚焦环和一种等离子处理器调节方法
专利号：201110139374.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-27
专利名称：混合不同流速气体的装置
专利号：201120148484.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-11
专利名称：一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置
专利号：201120168930.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-25
专利名称：一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置
专利号：201120148494.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-05-11
专利名称：一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备
专利号：201120072482.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-03-18
专利名称：用于等离子体发生器的可控制谐波的射频系统
专利号：201110064745.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-03-17
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