专利

专利名称：抛光头
专利号：201110039266.3
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司
时间：2011-02-16
专利名称：抛光头
专利号：201110039127.0
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司
时间：2011-02-16
专利名称：一种用于硅晶片精抛光的抛光组合物
专利号：201110002318.X
专利权人：清华大学，深圳清华大学研究院，深圳市力合材料有限公司
时间：2011-01-06
专利名称：一种制备硅溶胶的方法
专利号：201110002323.0
专利权人：清华大学，深圳市力合材料有限公司，深圳清华大学研究院
时间：2011-01-06
专利名称：一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及制备方法
专利号：201110002322.6
专利权人：清华大学，深圳市力合材料有限公司，深圳清华大学研究院
时间：2011-01-06
专利名称：一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物
专利号：201110002321.1
专利权人：清华大学，深圳清华大学研究院，深圳市力合材料有限公司
时间：2011-01-06
专利名称：一种均匀度高的二氧化硅溶胶的制备方法
专利号：201110002320.7
专利权人：清华大学，深圳清华大学研究院，深圳市力合材料有限公司
时间：2011-01-06
专利名称：一种原位组合磨粒铜抛光组合物
专利号：201110002319.4
专利权人：清华大学，深圳清华大学研究院，深圳市力合材料有限公司
时间：2011-01-06
专利名称：一种用于CMP多腔室的气压控制系统
专利号：201110002128.8
专利权人：清华大学
时间：2011-01-06
专利名称：一种用于CMP抛光头的气路正压通路系统
专利号：201110002126.9
专利权人：清华大学
时间：2011-01-06
专利名称：一种用于CMP抛光头多腔室的压力控制系统
专利号：201110002122.0
专利权人：清华大学
时间：2011-01-06
专利名称：一种用于CMP抛光头多区的气压控制系统
专利号：201110002118.4
专利权人：清华大学
时间：2011-01-06
专利名称：一种用于CMP抛光头的压力控制系统
专利号：201110002116.5
专利权人：清华大学
时间：2011-01-06
专利名称：电涡流传感器
专利号：201010598232.3
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司
时间：2010-12-21
专利名称：用于晶圆的刷洗装置
专利号：201010272672.X
专利权人：清华大学
时间：2010-09-03
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