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专利
专利名称:
掩模传输版库设备
专利号:
ZL201320891197.3
专利权人:
时间:2013-06-24
专利名称:
一种反射镜球面调整装置
专利号:
ZL201320283684.1
专利权人:
时间:2013-06-23
专利名称:
双工件台测量初始化系统
专利号:
ZL201220459452.2
专利权人:
时间:2013-06-22
专利名称:
一种浸没光刻机浸没单元防碰撞装置及方法
专利号:
201410758603.8
专利权人:
时间:2013-06-21
专利名称:
气压控制装置及气压控制系统
专利号:
201410740402.5
专利权人:
时间:2013-06-20
专利名称:
降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法
专利号:
201410729220.8
专利权人:
时间:2013-06-19
专利名称:
曝光装置及离焦倾斜误差补偿方法
专利号:
201410508363.6
专利权人:
时间:2013-06-18
专利名称:
一种用于棱镜定心调整机构
专利号:
201410429464.4
专利权人:
时间:2013-06-17
专利名称:
一种用于高精密工件台的无管路物料吸附装置及方法
专利号:
201410284172.6
专利权人:
时间:2013-06-16
专利名称:
三维孔结构的测量装置与测量方法
专利号:
201410225654.4
专利权人:
时间:2013-06-15
专利名称:
用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置
专利号:
201410171815.6
专利权人:
时间:2013-06-14
专利名称:
一种基于频谱处理的多通道对准系统及对准信号处理方法
专利号:
201410139202.4
专利权人:
时间:2013-06-13
专利名称:
一种光刻机垂向控制参数校准方法
专利号:
201410137059.5
专利权人:
时间:2013-06-12
专利名称:
一种浸液限制机构2
专利号:
201410114810.x
专利权人:
时间:2013-06-11
专利名称:
一种浸液限制机构1
专利号:
201410114022.0
专利权人:
时间:2013-06-10
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