专利
专利名称：一种实现光瞳偏振态任意分布的光刻照明系统设计方法
专利号：201410187396.5
专利名称：一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法
专利号：201410099930.7
专利名称：一种自适应光刻系统光源优化方法
专利号：201410386639.8
专利名称：一种采用压缩感知技术的光源优化方法
专利号：201410099897.8
专利名称：基于四光束干涉的波面位相测量方法
专利号：201410468786.X
专利名称：一种用于偏振光产生和检测的复合波片组的优化设计方法
专利号：ZL201210433315.6
专利名称：一种确定光刻照明系统中各元件之间匹配关系的方法
专利号：ZL201210474350.2
专利名称：带辅助线条的双吸收层衰减相移掩模衍射场的计算方法
专利号：ZL201210046143.7
专利名称：双吸收层衰减相移掩模衍射场及偏振度的计算方法
专利号：ZL201210046130.X
专利名称：一种基于基本模块的掩模辅助图形优化方法
专利号：ZL201210540770.6
专利名称：一种基于基本模块的掩模主体图形优化方法
专利号：ZL201210540937.9
专利名称：一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模混合优化方法
专利号：ZL201210199753.0
专利名称：一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模交替优化方法
专利号：ZL201210201573.1
专利名称：一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模同步优化方法
专利号：ZL201210199783.1
专利名称：一种计算多吸收层接触孔掩模衍射的方法
专利号：ZL201210292363.8
