专利

专利名称:负偏压温度不稳定性检测电路及其检测方法
专利号:201210435238.8
专利权人:
时间:2015-04-30
专利名称:针对脉冲射频电源的阻抗匹配方法及装置
专利号:PCT/CN2015/077779
专利权人:
时间:2015-04-29
专利名称:晶片定位装置及方法
专利号:PCT/CN2014/095845
专利权人:
时间:2014-12-31
专利名称:磁控溅射腔室及磁控溅射设备
专利号:PCT/CN2014/095760
专利权人:
时间:2014-12-31
专利名称:机械卡盘及等离子体加工设备
专利号:PCT/CN2014/095759
专利权人:
时间:2014-12-31
专利名称:磁控管及磁控溅射设备
专利号:PCT/CN2014/095758
专利权人:
时间:2014-12-31
专利名称:静电卡盘、腔室和静电卡盘的制作方法
专利号:PCT/CN2014/095353
专利权人:
时间:2014-12-29
专利名称:顶盖装置及工艺设备
专利号:PCT/CN2014/095290
专利权人:
时间:2014-12-29
专利名称:工艺腔室以及半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/095338
专利权人:
时间:2014-12-29
专利名称:工艺腔室以及半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/095339
专利权人:
时间:2014-12-29
专利名称:加热腔室及半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/095084
专利权人:
时间:2014-12-26
专利名称:衬底上的孔隙沉积工艺及半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/094380
专利权人:
时间:2014-12-10
专利名称:半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/093104
专利权人:
时间:2014-12-05
专利名称:片盒定位装置以及半导体加工设备
专利号:PCT/CN2014/092378
专利权人:
时间:2014-11-27
专利名称:用于反应腔的屏蔽结构
专利号:PCT/CN2014/089667 
专利权人:
时间:2014-10-28
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