专利
专利名称：承载装置、反应腔室及半导体加工设备
专利号：201510759983.1
专利名称：承载装置及半导体加工设备
专利号：201510762730.X
专利名称：承载装置及半导体加工设备
专利号：201510741733.5
专利名称：承载装置及半导体加工设备
专利号：201510742167.X
专利名称：用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备
专利号：201510728965.7
专利名称：一种设备模拟运行控制方法和装置
专利号：201510729428.4
专利名称：反应腔室及半导体加工设备
专利号：201510706624.X
专利名称：溅射装置及其操作方法
专利号：201510711965.6
专利名称：调整电源输出电流的方法和装置
专利号：201510701290.7
专利名称：上电极机构及半导体加工设备
专利号：201510679475.2
专利名称：一种收放片方法
专利号：201510674139.9
专利名称：一种离化率检测装置及方法
专利号：201510671954.X
专利名称：加热装置以及加热腔室
专利号：201510648731.1
专利名称：遮挡盘系统、反应腔室及半导体加工设备
专利号：201510648991.9
专利名称：一种基片的加热设备及加热方法
专利号：201510628018.0
