专利

专利名称:预清洗腔室及半导体加工设备
专利号:201410476179.8
专利权人:
时间:2014-09-17
专利名称:一种遮蔽盘传输装置及反应腔室
专利号:201410459629.2
专利权人:
时间:2014-09-10
专利名称:晶片预清洗腔室及半导体加工设备
专利号:201410455191.0
专利权人:
时间:2014-09-09
专利名称:一种薄膜沉积设备
专利号:201410443115.8
专利权人:
时间:2014-09-02
专利名称:半导体设备腔室状态显示控制的方法及装置
专利号:201410352900.2 
专利权人:
时间:2014-07-23
专利名称:一种加热腔室及半导体加工设备
专利号:201410335083.X
专利权人:
时间:2014-07-15
专利名称:一种加热腔室及半导体加工设备
专利号:201410335948.2
专利权人:
时间:2014-07-15
专利名称:加热控制装置及物理气相沉积设备
专利号:201410286251.0
专利权人:
时间:2014-06-24
专利名称:一种用于真空镀膜设备中的顶针升降机构
专利号:201410241015.7
专利权人:
时间:2014-05-30
专利名称:一种新型冷却水盘结构
专利号:201410230721.1
专利权人:
时间:2014-05-28
专利名称:一种顶针机构、反应腔室及半导体加工设备
专利号:201410240737.0
专利权人:
时间:2014-05-30
专利名称:一种预清洗腔室及半导体加工设备
专利号:201410213303.1
专利权人:
时间:2014-05-20
专利名称:一种遮挡盘及反应腔室
专利号:201410213271.5
专利权人:
时间:2014-05-20
专利名称:一种传输装置及半导体加工设备
专利号:201410230510.8
专利权人:
时间:2014-05-28
专利名称:一种反应腔室及半导体加工设备
专利号:201410202122.9
专利权人:
时间:2014-05-13
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