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专利
专利名称:
锗硅BICMOS工艺中垂直寄生型PNP三极管及制造方法
专利号:
201110326336.3
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-10-24
专利名称:
锗硅HBT工艺中垂直寄生型PNP三极管及制作方法
专利号:
201110409888.0
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-12-09
专利名称:
寄生横向型PNP器件及制造方法
专利号:
201110363181.0
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-11-16
专利名称:
锗硅功率HBT、其制造方法及锗硅功率HBT多指器件
专利号:
201110355672.0
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-11-11
专利名称:
锗硅HBT工艺中的横向寄生型PNP器件及制造方法
专利号:
201110256104.5
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-09-01
专利名称:
三极管开口的制备方法
专利号:
201110280832.X
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-09-20
专利名称:
锗硅异质结双极晶体管及制造方法
专利号:
201110353252.9
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-11-09
专利名称:
改善硅通孔横向开口的干法刻蚀方法
专利号:
201110328071.0
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-10-25
专利名称:
深亚微米半导体器件的工艺集成方法
专利号:
201110283488.X
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-09-22
专利名称:
一种锗硅异质结双极晶体管的制造方法
专利号:
201110227538.2
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-08-09
专利名称:
自适应可变带宽锁相环
专利号:
201110266339.2
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-09-08
专利名称:
锗硅异质结双极型三极管功率器件及制造方法
专利号:
201110230795.1
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-08-12
专利名称:
精确控制EB结位置和EB结反向击穿电压的结构
专利号:
201110310522.8
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-10-13
专利名称:
BiCMOS工艺中的寄生PIN器件及制造方法
专利号:
201110259144.5
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-09-02
专利名称:
对称型叠层电感结构及其绕线方法
专利号:
201110330323.3
专利权人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
时间:2011-10-26
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