专利
专利名称：一种晶片离子注入剂量控制方法
专利号：201310557473.7
专利名称：一种离子束采集方法
专利号：201310557474.1
专利名称：一种垂直方向角度测量的系统
专利号：201310507667.6
专利名称：一种束流均匀性调节装置
专利号：201310415418.4
专利名称：一种测量束流的法拉第装置
专利号：201310303660.2
专利名称：一种可运动机械臂上判定晶片存在的方法
专利号：201310303698.X
专利名称：一种定位台上确定晶片圆心偏移矢量
专利号：201210452403.0
专利名称：一种晶片传输系统的布局
专利号：201210452427.6
专利名称：一种离子均匀注入的宽带束扫描方法
专利号：201210442569.4
专利名称：一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统
专利号：201210442577.9
专利名称：一种能量检测装置
专利号：201110452400.2
专利名称：一种定位机械手上晶片圆心的方法
专利号：201110347036.3
专利名称：一种多电极束流聚焦调节装置
专利号：201110347025.5
专利名称：一种宽带束束流检测的方法与装置
专利号：201110347069.8
专利名称：一种负压力探测联锁方法
专利号：201110241143.8
