专利
专利名称：實現反應氣體快速切換的等離子體反應室及其方法
专利号：103114003
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-24
专利名称：等离子处理装置及其去夹持装置和方法
专利号：103114614
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-05-05
专利名称：改善TSV刻蚀工艺的系统及刻蚀终点监测方法
专利号：103117703
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-05-28
专利名称：等離子體裝置內具有氧化釔包覆層的部件及其製造方法
专利号：103120475
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-06-13
专利名称：一種減少門效應的等離子體處理裝置
专利号：103108223
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-03-12
专利名称：一种等离子体反应室及其静电夹盘
专利号：103114004
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-24
专利名称：製備半導體反應腔室部件的方法及部件
专利号：103114005
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-24
专利名称：電感耦合等離子體裝置
专利号：103113472
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-11
专利名称：等离子体处理装置及其静电夹盘
专利号：103113471
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-11
专利名称：等離子體處理裝置
专利号：103113779
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-04-17
专利名称：一种改进气体分布的等离子体反应器
专利号：103102878
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-01-27
专利名称：一種等離子體刻蝕工藝的處理裝置及方法
专利号：103107752
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-03-08
专利名称：等离子体处理工艺的终点检测装置及方法
专利号：103102877
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-01-27
专利名称：一種等離子處理裝置的等離子處理方法
专利号：103101548
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-01-16
专利名称：一種等離子處理裝置及其處理方法
专利号：103101549
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-01-16