专利

专利名称：用於靜電吸盤的射頻濾波器
专利号：101143728
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-22
专利名称：一種用於等離子體處理裝置的載片台
专利号：101143731
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-22
专利名称：一种用于等离子体处理装置的可调节约束装置
专利号：101143729
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-22
专利名称：一種減少晶片背面生成聚合物的聚焦環
专利号：101143726
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-22
专利名称：一種在等離子體刻蝕室內刻蝕氧化矽層的方法
专利号：101143721
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-22
专利名称：一種應用於等離子處理裝置的氣體分佈系統及驗證方法
专利号：101143573
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-21
专利名称：一種用於等離子體處理裝置的可調節約束環
专利号：101143569
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-21
专利名称：一種用於等離子反應室的層疊型元件及其製造方法
专利号：101143563
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-21
专利名称：一種用於等離子反應室的層疊型元件及其製造方法
专利号：101143559
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-21
专利名称：一種具有降溫功能的法拉第遮罩裝置及等離子體處理設備
专利号：101223047
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-28
专利名称：一种温度可调的等离子体约束装置
专利号：101143553
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-21
专利名称：抗刻蝕層、半導體處理裝置及製作方法
专利号：101126971
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-07-26
专利名称：一種靜電吸盤
专利号：101144196
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-26
专利名称：一種電容耦合式的等離子體處理裝置及其基片加工方法
专利号：100146051
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2011-12-13
专利名称：一种等离子处理方法及等离子处理装置
专利号：10-2013-0121761
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-14
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