专利
专利名称：一种等离子处理方法及等离子处理装置
专利号：2013-203619
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-09-30
专利名称：等离子反应器及制作半导体基片的方法
专利号：14/066,631
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-29
专利名称：一种等离子处理方法及等离子处理装置
专利号：14/052,650
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-11
专利名称：一种电容耦合式的等离子体处理装置及其基片加工方法
专利号：13/564,427
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-08-01
专利名称：等离子体刻蚀装置
专利号：201410345048.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-07-18
专利名称：等离子体处理装置及其温度控制方法
专利号：201410344292.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-07-18
专利名称：多处理区域等离子体处理装置及等离子体工艺监测方法
专利号：201410344275.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-07-18
专利名称：等离子体处理腔室及其直流电极和加热装置的复合组件
专利号：201410221766.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-05-23
专利名称：一种基片安装平台和一种等离子处理装置及其运行方法
专利号：201410260959.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-06-12
专利名称：一种静电夹盘及静电夹盘的制造方法
专利号：201410261390.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2014-06-12
专利名称：静电卡盘加热测温电路及等离子体反应装置
专利号：201310631392.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-11-29
专利名称：一种气体调节装置及其所处的等离子体反应器
专利号：201310502929.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-22
专利名称：一种等离子体处理设备
专利号：201310471093.1
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-10
专利名称：自清洁真空处理腔室
专利号：201310505301.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-10-23
专利名称：一种半导体处理装置
专利号：201310573877.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-11-15