专利
专利名称：等离子体刻蚀方法
专利号：201310312153.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-07-23
专利名称：一种电感耦合等离子体处理装置
专利号：201310300681.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-07-17
专利名称：实现快速散热的法拉第屏蔽装置及等离子体处理装置
专利号：201310193642.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-05-22
专利名称：间隔层双曝光刻蚀方法
专利号：201310302894.5
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-07-18
专利名称：等离子体处理装置及氦气管
专利号：201310356306.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-08-15
专利名称：晶圆传递腔室
专利号：201310332799.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-08-01
专利名称：等离子体处理装置的冷却液处理系统及方法
专利号：201310332796.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-08-01
专利名称：一种等离子体处理装置
专利号：201310753338.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-12-31
专利名称：等离子体处理装置
专利号：201310214025.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-05-31
专利名称：用于感应耦合等离子体腔室中射频窗的加热器
专利号：201310345549.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-08-09
专利名称：一种用于电感耦合型等离子处理器射频窗口的加热装置
专利号：201310671759.8
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-12-12
专利名称：用于感应耦合等离子体腔室的气体注入装置
专利号：201310252246.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-06-24
专利名称：等离子处理装置及其气体输送装置、气体切换方法
专利号：201310185772.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-05-17
专利名称：半导体结构的形成方法
专利号：201310413418.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-09-11
专利名称：一种气体分布板及其制作方法
专利号：201310193638.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2013-05-22