专利

专利名称：一种等离子处理方法及等离子处理装置
专利号：201210393470.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-10-16
专利名称：一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒
专利号：201220445178.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-09-03
专利名称：加热器供电电路
专利号：201220465239.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-09-13
专利名称：真空处理装置的气体混合装置
专利号：201220642548.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-28
专利名称：一种用于真空处理装置的气体供应装置及其气体供应及切换方法
专利号：201210351005.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-09-20
专利名称：等离子体处理设备及其静电卡盘
专利号：201210277352.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-08-06
专利名称：一种静电卡盘
专利号：201210310949.2
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-08-28
专利名称：一种用于多腔室等离子处理装置的减少颗粒污染的方法
专利号：201210249772.X
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-07-18
专利名称：一种静电卡盘及等离子体处理装置
专利号：201210316678.1
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-08-30
专利名称：等离子体处理设备及其静电卡盘
专利号：201210284969.7
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-08-06
专利名称：一种改善硅穿孔工艺中刻蚀均匀性的方法
专利号：201210449703.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-11-12
专利名称：半导体结构的形成方法
专利号：201210234307.9
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-07-06
专利名称：半导体结构的形成方法
专利号：201210232465.0
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-07-05
专利名称：半导体结构的形成方法
专利号：201210232400.6
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-07-05
专利名称：等离子体处理装置及其包含的法拉第屏蔽装置
专利号：201220244746.3
专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
时间：2012-05-28
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