关于举办“第七届国际先进光刻技术研讨会”的通知
2023-10-07
第七届国际先进光刻技术研讨会将于10月25-26日在浙江丽水举办
近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。
自2017年以来，IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加，行业反响热烈，业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收录，接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名！
第七届IWAPS将于2023年10月25-26日于浙江丽水温德姆酒店举行（浙江省丽水市莲都区丽青路129号）,请于2023年10月24日报到。
欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极报名，参会名额有限，有意者请及时报名参会。
扫码进入邀请函报名：
或进入会议官网报名：https://www.iwaps.org/cn/index/10