通知公告-集成电路产业技术创新联盟
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关于召开“2018国际先进光刻技术研讨会”的通知

2018-09-27   

光刻是集成电路制造领域的关键技术之一,也是衡量产业发展水平的重要指标。为了加强光刻技术领域的交流与合作,开拓研发思路,解决技术难点,促进国内先进节点光刻工艺技术发展,在行业各方面的共同支持下,中国集成电路产业技术创新战略联盟拟定于2018年10月18-19日在福建厦门举办第二届“国际先进光刻技术研讨会(International Workshop for Advanced Patterning Solutions)”。会议将集中研讨先进光刻技术的热点问题,聚焦在14/10nm和7/5nm节点,包括design rulespattern solutionsmask requirementsprocess schemeEUV等。本次会议将会是一次高水平的技术研讨会。更多详细信息请访问会议官网:www.iwaps.org/cn

有意参会者请完成注册报名并填写附件“2018国际先进光刻技术研讨会注册回执”,并于2018年10月14之前将参会回执发至iwaps@ime.ac.cn。

会议联系人:010-82995561 粟老师;010-82995816 马老师

 

2018国际先进光刻技术研讨会注册回执.docx              IWAPS会议_Program.pdf

 

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